棕剛玉磨料電導率影響的因素有哪些？[ 01-09 15:30 ]

棕剛玉的導電率并不是固定的，而是受多種因素的影響。以下是影響棕剛玉導電率的關(guān)鍵因素分析：

碳化硅微粉：噴砂與磨料行業(yè)中的明星材料[ 07-10 10:23 ]

引言 在現代工業(yè)的精密工藝中，碳化硅（SiC）微粉作為一種高性能的非氧化物陶瓷材料，正以其卓越的物理與化學(xué)特性，引領(lǐng)著(zhù)噴砂和磨料技術(shù)的革新潮流。 碳化硅微粉的魅力 碳化硅微粉，以其高達莫氏硬度9.5的堅硬質(zhì)地，以及出色的耐磨性和耐高溫能力，成為工業(yè)界不可或缺的材料之一。其在噴砂與磨料行業(yè)中的表現，更是令人矚目。 高效精準的噴砂工藝 噴砂技術(shù)，通過(guò)壓縮空氣將磨料高速?lài)娚渲凉ぜ砻妫瑢?shí)現去污、除銹及表面預處理的目的。選用碳化硅微粉作為噴砂介質(zhì)，不僅因它的高硬度確保了快速有效的表面處理，還能顯著(zhù)降低磨料的損耗率

碳化硅、白剛玉等磨料微粉是如何進(jìn)行顆粒整形？[ 11-02 16:00 ]

隨著(zhù)新材料產(chǎn)業(yè)的發(fā)展、傳統產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)品升級，工業(yè)生產(chǎn)中對粉體原料提出越來(lái)越高的要求

大面積碳化硅陶瓷膜層化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)[ 08-23 16:25 ]

光刻機等集成電路關(guān)鍵制造裝備中某些高性能光學(xué)元件對材料制備有著(zhù)苛刻的要求，不僅要求材料具有高的穩定性，還需滿(mǎn)足某些特定的光學(xué)性能要求。反應燒結碳化硅經(jīng)拋光后其面型精度高，但是該材料是由碳化硅和游離硅組成的兩相材料，在研磨拋光等過(guò)程各相的去除速率不一致，無(wú)法達到更高的面型精度，因此無(wú)法滿(mǎn)足特定光學(xué)部件性能要求。 采用反應燒結碳化硅基體結合化學(xué)氣相沉積碳化硅(CVDSiC)膜層的方法制備高性能反射鏡，通過(guò)優(yōu)化先驅體種類(lèi)、沉積溫度、沉積壓力、反應氣體配比、氣體流場(chǎng)、溫度場(chǎng)等關(guān)鍵工藝參數，可實(shí)現大面積、均勻CVDSi

碳化硅陶瓷反應連接技術(shù)[ 08-22 17:23 ]

全封閉、中空部件的制備一般采用連接工藝獲得，目前常用的陶瓷連接方法主要有釬焊、擴散焊等，但這些方法均存在工藝復雜、焊接料性能同碳化硅基體差別大等缺點(diǎn)，難以滿(mǎn)足光刻機等集成電路制造裝備對復雜結構部件的使用要求。 根據反應燒結碳化硅的工藝特點(diǎn)，將待粘接零部件進(jìn)行預處理，并通過(guò)粘接料對制品進(jìn)行粘接，隨后再進(jìn)行反應燒結，使制品的連接與反應燒結同步完成。通過(guò)調節粘接料的組分、控制連接工藝，可實(shí)現復雜結構部件的致密、高強度、無(wú)縫隙粘接。