碳化硅是一種重要的寬禁帶半導(dǎo)體材料，由于其具有高的熱導(dǎo)率、大的飽和電子漂移速率及搞得擊穿場強，從而被廣泛應(yīng)用于制備高溫、高頻及大功率電子器件。4H碳化硅點群為6mm，理論上存在二階非線性光學(xué)效應(yīng)。同事碳化硅優(yōu)異的物理性質(zhì)，如寬的帶隙、高的熱導(dǎo)率及強的共價鍵能等有利于提高其抗激光損傷能力，其損傷閥值可達80GW/cm²，然而，目前國際上還沒有碳化硅晶體非線性光學(xué)頻率變換的實驗報道。
  研究所告知中紅外段激光在分子光譜、氣體探測、環(huán)境保護、醫(yī)學(xué)、激光通訊、紅外遙感及光電對抗等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用，非線性光學(xué)頻率變換是目前獲得中紅外激光的有效途徑。常用的中紅外非線性光學(xué)晶體受到低激光損傷閥值的新型中紅外非線性光學(xué)材料是當(dāng)前中紅外激光研究領(lǐng)域的前沿和特點。
  碳化硅微粉及碳化硅粒度砂是碳化硅特性的主要組成，碳化硅的用途廣泛，現(xiàn)在已經(jīng)很多企業(yè)生產(chǎn)廠家都在使用碳化硅在生產(chǎn)自己的制品，可見碳化硅的發(fā)展步伐是很光明的。